Teil 2 legt das Verfahren zur Bestimmung der optischen beziehungsweise dielektrischen Konstanten mittels ellipsometrischer Messungen und deren Auswertung auf Basis des Modells Volumenmaterial fest.
Teil 3 legt mittels ellipsometrischer Messungen und deren Auswertung das Verfahren zur Bestimmung der Schichtdicke d einer transparenten Schicht sowie der optischen (Brechungsindex n) beziehungsweise dielektrischen (Realteil ε1) Konstanten/Funktionen in einem Spektralbereich, für den k = 0 angewendet wird, auf Basis des Modells Transparente Einfachschicht fest.
Das zuständige nationale Normungsgremium ist der Arbeitsausschuss NA 062-02-101 AA „Mess- und Prüfverfahren für Schichten und Schichtsysteme" im DIN-Normenausschuss Materialprüfung (NMP).
Die Dokumente können bei der DIN Media GmbH, 10772 Berlin bezogen werden. Die Norm-Entwürfe können bis 16. Dezember 2026 im Norm-Entwurfs-Portal kommentiert werden: Teil 2 und Teil 3.
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